华侨大学陆静--中文主页-- Removal mechanism of sapphire substrates (0001, 1120 and 1010) in mechanical planarization machining

陆静

学位：工学博士学位
职称：教授
所在单位：制造工程研究院

博士生导师

主要任职：厦门市光电材料加工重点实验室副主任
学历：博士研究生
学位：工学博士学位
所在单位：制造工程研究院
电子邮箱：
其他任职：国际磨粒加工委员会（ICAT）青年委员，中国机械工程学会生产工程分会光整加工专业委员会理事，稀土抛光材料与界表面调控加工技术专业委员会副主任委员，福建省机械工程学会标准委员会委员

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Removal mechanism of sapphire substrates (0001, 1120 and 1010) in mechanical planarization machining

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发表刊物：

CERAMICS INTERNATIONAL

刊物所在地：

2016JCR大类-工程技术2区

备注：

2018年考核

是否译文：

否

发表时间：

2016-11-02

第一作者：

姜峰,徐西鹏,陆静

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