华侨大学陆静--中文主页-- Controllable material removal behavior of 6H-SiC wafer in nanoscale polishing

陆静

学位：工学博士学位
职称：教授
所在单位：制造工程研究院

博士生导师

主要任职：厦门市光电材料加工重点实验室副主任
学历：博士研究生
学位：工学博士学位
所在单位：制造工程研究院
电子邮箱：
其他任职：国际磨粒加工委员会（ICAT）青年委员，中国机械工程学会生产工程分会光整加工专业委员会理事，稀土抛光材料与界表面调控加工技术专业委员会副主任委员，福建省机械工程学会标准委员会委员

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Controllable material removal behavior of 6H-SiC wafer in nanoscale polishing

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发表刊物：

APPLIED SURFACE SCIENCE

是否译文：

否

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