华侨大学陆静--中文主页-- Removal mechanism of sapphire substrates (0001, 11(2)over-bar0 and 10(1)over-bar0) in mechanical planarization machining (vol 43, pg 16178, 2017)

陆静

教授

博士生导师

学位：工学博士学位
所在单位：制造工程研究院
主要任职：厦门市光电材料加工重点实验室副主任
学历：博士研究生
电子邮箱：
其他任职：国际磨粒加工委员会（ICAT）青年委员，中国机械工程学会生产工程分会光整加工专业委员会理事，稀土抛光材料与界表面调控加工技术专业委员会副主任委员，福建省机械工程学会标准委员会委员

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Removal mechanism of sapphire substrates (0001, 11(2)over-bar0 and 10(1)over-bar0) in mechanical planarization machining (vol 43, pg 16178, 2017)

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发表刊物：CERAMICS INTERNATIONAL

是否译文：否

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